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プッシュ プレート ダブル トンネル炉
アプリケーション
アプリケーション: 特殊なセラミックス、構造セラミックス、電子セラミック、機能セラミック、磁性材料、電子粉体、電子デバイス。
説明
1. 二重トンネル水平分布は、2 つのトンネルは、逆方向に移動。1 つのトンネルで排熱することができます別のトンネル内の製品を予熱、したがって排熱することができます十分な使用、およびエネルギーは、単一トンネルよりも 25-45% を保存できます。
2. プッシュ プレートが自動的に循環し、PLC によって制御されます。
3. 二重トンネル炉は、低投資、高容量、高温の均一性は、国内と海外で最も人気のある炉等の機能を持っています。
主な仕様データ
炉名 |
高温プッシュ プレート炉の逆にダブル トンネル |
タイプ |
TL-75-16 |
商工会議所サイズ |
7500 × 150 × 150 mm (L x 幅 x 高さ) 二重トンネル x (高さが無い #39; 両の高さ) |
プッシュ プレート サイズ |
120 x 120 x50mm (L x 幅 x 高さ) |
炉サイズ |
約 1200 × 2000 × 1700 mm (L x 幅 x 高さ) |
ローディングハイト |
≤150mm |
基本的なデータ
| Max。温度 | 1700℃(≤2 hours) |
動作温度 |
1650℃ |
パワー |
75 KW |
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率の電圧 |
380 v、3相、50 HZ |
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温度精度 |
±1℃ |
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温度変動 |
±5℃ (温度一定後 2 時間) |
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炉温度 |
温度試験ポイントと element≥100mm を加熱の距離から遠く離れた ≤50℃ |
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温度帯、加熱要素の温度ポイント分布
| 高温地帯 | ゾーン号 |
1, 2 |
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速度温度 |
1600 |
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ゾーンの長さ |
810 |
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ゾーンを予備加熱と冷却ゾーン |
3345 mm |
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ゾーン Nos。 |
2 |
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加熱要素 |
2 つのゾーン MoSi2 ヒーター エレメント |
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暖房モード |
商工会議所や中央の牽引側面 |
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温度ポイント |
2 (高炉炉頂) によって |
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変圧器 |
2 ペーチ |
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熱電対 |
B タイプ、2 ペーチ |
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プロペラ |
油圧圧力 |
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トータル セット炉
| 1 | 炉体 |
1 セット |
2 |
プロペラ |
2 セット |
3 |
制御システム (熱電対延長ワイヤ ・ トランスを含む) |
1 セット |
4 |
プッシュ プレート |
120 ペーチ |
5 |
(2 の予備部品を含む MoSi2 発熱 |
20 ペーチ |
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